国产纳米压印光刻设备亮相，成本降至1/10

总部位于杭州的初创企业璞璘科技近日宣布，已与深圳力策科技合作完成PL-AS真空气垫纳米压印光刻（NIL）设备的验证工作。据南华早报报道，该设备能够在8英寸晶圆上量产广泛应用于光通信、传感及激光雷达领域的光子芯片。该生产过程无需使用深紫外（DUV）光刻技术，且制造成本仅为传统方案的十分之一。

纳米压印光刻技术曾被认为是突破传统光学光刻分辨率极限的潜在途径。由于其主要依靠物理压印而非光学投影将图形转印到晶圆上，过去长期面临大规模商业化难题。直到2023年日本佳能推出相关系统，并宣称其可作为部分先进光刻设备的低功耗、低成本替代品，这项技术才再次回到产业视野中。

璞璘科技成立于2017年，专注于NIL设备、材料及相关工艺的研发。此次发布的设备主要聚焦于光栅、光波导等重复性纳米级光学结构，并提供低于10纳米的线宽分辨率与晶圆级压力控制。目前，该技术正被应用于基于砷化镓和磷化铟的化合物半导体器件以及硅光子芯片等领域。

尽管在部分先进光刻设备出口受限的背景下，该技术为国内芯片产业提供了新的思路，但业界对其在产能、成品率等方面的实际表现仍存有疑虑。分析人士认为，纳米压印技术的综合成本效益受掩膜版制造、缺陷率及工艺整合等多重因素影响，短期内无法撼动现有先进芯片工艺的市场主导地位。此外，由于该公司尚未披露具体的生产规模、成品率及第三方验证数据，其技术的商业化量产进度仍需进一步观察。