俄罗斯造出150纳米光刻机，性能相当于奔腾4

据报道，俄罗斯绿城纳米技术中心（ZNTC）在“Progress ELL 150”项目下，成功开发出设计标准为150纳米的电子束光刻机原型机。该项目是俄罗斯国家科技发展计划的重点任务。

该设备不仅能够用于制作掩模版，还能省去掩模版直接在衬底上描绘电路图形。在技术节点上，150纳米工艺大约等同于二十年前英特尔奔腾4处理器的性能表现。电子束光刻技术具备较高的灵活性，在研发阶段能够迅速修改图形，从而节省高昂的掩模版制造成本。然而，其曝光速度较慢，难以满足大规模量产的需求，主要应用于航天及国防等特定领域的小批量芯片制造。

据悉，ZNTC此前曾展出过分辨率为350纳米的同类装置，目前正朝着130纳米及90纳米节点研发。现阶段，两台150纳米原型机正开展为期四个月的全面测试，后续将验证成像精度等工艺指标，其中一台将被转移至两千公里外的区域进行深度测试。

当前，俄罗斯半导体行业仍面临诸多挑战，例如65纳米及以下工艺节点的工程人员匮乏、90纳米以下光刻胶需依靠进口，以及高精度激光干涉仪与温度控制系统等核心零部件供应不足。