三星1b DRAM良率提升,但无缘HBM
来源:ictimes 发布时间:2024-10-24 分享至微信
三星电子的第五代10纳米级(1b)DRAM良率已超过60%,但因其最初设计未考虑高带宽存储器(HBM)应用,故难以用于HBM产品线。
目前,三星在HBM3、HBM3E中采用的是第四代10纳米级(1a)DRAM,而竞业者SK海力士和美光则采用1b DRAM,三星产品落后一代。
对于2025年底规划量产的HBM4,三星计划采用第六代10纳米级(1c)DRAM超车。分析认为,现阶段1b DRAM不太可能应用于HBM。三星在1b DRAM设计之初未考虑HBM应用,因此难以改造使其适用于HBM产品。
在DRAM产业中,国内业者正猛烈追赶韩国企业。国内最大存储器制造商长鑫存储计划将DRAM月产能大幅提高,若国内大幅增加DRAM出货量,将影响三星等既有厂商的业绩表现。
为摆脱困境,三星将目光投向1b DRAM,并计划快速扩充产能。业界相关人士指出,三星急于转换到1b DRAM制程的原因之一即为国内企业的竞争压力。
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