三星1c DRAM良率获突破,有望扭转HBM市场劣势
来源:ictimes 发布时间:2024-10-09 分享至微信

三星电子第六代10纳米级(1c)DRAM近日首次确保良率,标志着三星克服了1c DRAM的技术难关。据韩媒报道,三星内部对此表示乐观,认为这将加快提升良率的速度,并推动既定的发展蓝图。


三星计划将1c DRAM应用于2025年量产的第六代高带宽存储器(HBM4)中,以扭转在HBM市场上的劣势。此前,在HBM3E竞争中,三星落后于SK海力士。但此次1c DRAM良率的突破,让三星看到了追赶竞争对手的希望。


据悉,三星存储器事业部的气氛因这一好消息再次活跃,多位开发人员向职员表达感谢之情,并鼓励大家“创造三星的秋天”、“扭转局面”。


虽然三星在HBM技术和DRAM时代上落后于竞争对手,但凭借特有的执行力,三星有望加快良率提升的速度。如果未来三星能全力提升良率,并在HBM4上率先搭载1c DRAM,就有可能扭转在HBM市场上的劣势。


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