台积电：已买新型EUV光刻机

据报道，针对外界关于台积电因保守而拒绝投资下一代光刻设备的传闻，台积电董事长魏哲家近期在股东大会上予以澄清。他表示公司已经采购了High-NA EUV（高数值孔径极紫外）光刻机，目前正积极推进相关研发工作，但出于成本因素的考量，现阶段暂时不会将其投入量产。

这款由阿斯麦（ASML）研发的新型High-NA EUV光刻机，单台售价高达3.8亿至4亿美元（约25.81亿至27.17亿元人民币），价格是目前主流EUV设备的两倍以上。魏哲家直言，高昂的设备采购成本是暂缓量产的主要原因。

在过渡期间，台积电的计划是充分利用现有的EUV光刻机。魏哲家指出，通过将现有光刻设备与多重图案化技术相结合，依然能够满足先进工艺节点的微缩需求。因此，台积电将耐心等待High-NA EUV设备的投资回报率达到更理想的水平。

事实上，台积电已于2024年9月接收了首台High-NA EUV光刻机，并将其部署在研发中心，用于下一代工艺基础光刻技术的开发。魏哲家认为，提前开展研发准备工作，有助于确保未来正式投产时能够实现可靠的成品率与生产效率。

尽管英特尔等竞争对手已将High-NA EUV设备列入量产计划，但台积电选择了更为稳健的先研发、后投产策略，这与其一贯坚持的成本控制原则相符。对于这台价值4亿美元（约27.17亿元人民币）的设备，真正投入实际应用还需要一定时间。

魏哲家预计，当工艺真正需要依靠单次曝光来实现更精细的线宽，且晶圆制造成本具备市场竞争力时，该设备自然会融入生产体系。

注：按1美元≈6.79人民币计算