美官员忧EUV光刻机流入中国，荷兰予以否认

据相关媒体报道，美国官方对极紫外（EUV）光刻机可能进入中国市场一事表达了顾虑，不过荷兰相关光刻机设备制造商对这一说法进行了否认。

据了解，美国商务部长霍华德·卢特尼克曾在多场会议期间，向该荷兰企业的高管传达了上述担忧，其担心这类尖端设备会突破由美国主导的出口限制。作为目前全球最顶尖的半导体生产装备，单台EUV光刻机的重量高达180吨，整体尺寸与一辆校车差不多。

针对相关传闻，荷兰外交部通过电子邮件作出回应，强调该国在半导体制造装备出口领域，严格遵照欧盟两用物项条例以及本国相关措施所制定的管制清单。该部门指出，凡是落入管制范围内的技术、组件及设备均必须取得许可，荷兰方面会严格落实该政策，并在必要时刻采取干预措施。

此外，早在今年4月，美国就曾抛出一项法案，企图促使盟友协同实施出口管控，进而削弱中国生产先进芯片的实力，当时深紫外（DUV）光刻机同样被列入了制裁清单之中。