魏哲家：台积电已购入高NA EUV设备

在半导体先进制程发展中，光刻机设备的更新换代对技术演进具有重要影响。此前市场有消息称，台积电现阶段不会引入高数值孔径极紫外光刻（High-NA EUV）设备。针对这一传闻，台积电董事长魏哲家在6月4日召开的股东大会上作出了回应。

魏哲家表示，台积电已经采购了High-NA EUV设备，并将其应用于前沿技术的研发工作中。他同时说明，出于对生产成本的考虑，该设备目前尚未直接投入量产阶段。

目前，High-NA EUV设备的综合生产成本与晶圆代工价格之间的匹配度仍有待提升。因此，台积电现阶段的规划是在研发环节继续提升该设备的生产效率，并努力降低相关技术的应用成本。魏哲家提到，台积电会在发挥设备技术优势的基础上，待市场需求和成本条件具备后，再将其正式引入生产线进行商业化量产。