推出“特供版”光刻机？ASML最新回应
来源:半导体前沿发布时间:2023-07-061484浏览
询问 AI7月5日Digitimes援引中国业内人士消息称，ASML为进一步规避美荷对先进光刻设备的管制影响，可能为中国大陆客户提供“特供版”的DUV光刻机。
在英伟达对中国大陆市场推出了A800/H800后，“特供版”似乎有了暂时的商业可行性，但根据芯片大师近期的文章曝美对华AI芯片出口将实施“更严格管制”，这门生意在年内可能并不稳当。报道援引中国行业消息人士称，ASML可能会发布其TWINSCAN NXT:1980 DUV光刻机的变体，以阻止其中国大陆客户获得28nm以下逻辑工艺制造能力。而就在6月30日，荷兰政府发布深紫外光(DUV)及更先进的半导体光刻设备出口管制新规，将于9月1日正式实施。市场预计，这将影响中国大陆半导体客户此前向ASML下的数十台光刻设备订单。
图：目前受限的两款DUV
随后，ASML在其官网发表声明称，该公司未来出口其先进的浸润式DUV光刻系统（即TWINSCAN NXT:2000i及后续型号）时，将需要向荷兰政府申请出口许可证，而荷兰政府将最终决定批准或拒绝，但未公布具体时间。根据ASML的产品序列，实际上荷兰政府本次出口限制主要针对的是两款较新的DUV型号——即NXT:2000i及2050i产品，两者均属于DUV系列ArF光刻机产品，分辨率为≤38nm，主要面向制程节点为7-28nm。
图：2014年推出的NXT:1980Di
而本次爆料将推出“特供版”的NXT:1980Di是10年前推出的老型号、“入门级”DUV，并不在目前的官方限制范围内，但其分辨率可以达到≤38nm，尽管对比上述两个型号在良率、成本方面没有优势，但理论上依然可以支持到7nm左右的工艺生产。而事实上，全球晶圆厂在使用1980Di时，大多是生产14nm及以上逻辑工艺，很少投入14nm以下乃至7nm制程，但仍然可以满足“28nm以下”这个敏感节点，可能是目前最适合“阉割”性能再卖给中国客户的型号。台媒报道称，中国大陆业者近期对于此次荷兰政府的新规进行过“沙盘推演”，至少有3套“剧本”。第一，荷兰与美国同步禁止14nm以下光刻设备，仅28nm可提供；第二，荷兰效仿日本禁止所有浸没式光刻设备，45nm以下禁止出口；第三，45nm以下光刻设备须需提出申请，经审批决定是否出口。
最新消息显示，Digitimes编辑已更新该篇文章：本文刊出后，ASML已来文回应，将遵守所有使用的法律和法规，不会专门为中国设计系统，也不会进一步回应市场谣言和猜测。
来源：智能改变世界、Digitimes
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