荷兰升级光刻机制裁？ASML回应：错误解读，并非所有DUV受限

集微网消息，今日荷兰政府颁布关于半导体设备出口管制的最新条例，部分媒体将此理解为针对中国的光刻机管制再次升级至所有DUV，实际上这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

ASML在给集微网的一份声明中强调，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及部分最新DUV型号，包括TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。EUV光刻机在此前已经受到限制，其他系统的发运未受荷兰政府管控。

“新颁布的管制条例今年9月1日生效，现在ASML可以开始提交出口许可申请；9月1日之后，管制条例涉及的设备型号出口需向荷兰政府提交出口许可申请，由荷兰政府决定是否批准授予许可证。”ASML方面告诉集微网。

这意味着9月1日之前发货的DUV光刻机或不受影响，此前业内猜测的TWINSCAN NXT:1980Di也不受影响。

实际上，今年3月份，荷兰即宣布正式加入美国在半导体行业对中国的限制行列并将于夏季之前实施。因此，今日荷兰政府出台的新规是的“靴子落地”。

为此，新的出口管制对ASML造成的影响，该公司回应与几个月前的回应一致，即“不会对已发布的2023年财务展望以及于2022年11月投资者日宣布的长期展望产生重大影响。”