High NA EUV曝光机即将交付
来源:ictimes 发布时间:2 天前 分享至微信

据日经亚洲报道,荷兰顶级制造商阿斯麦(ASML)的High NA EUV曝光机,即将在年底前运抵台积电。。台积电计划将这台芯片制造设备安装在新竹总部附近的研发中心。


阿斯麦的High NA EUV曝光机,被誉为当前世界上最昂贵的芯片制造设备,每台售价高达3.5亿美元,相当于3架F-35战斗机的价值。


在这场技术盛宴中,台积电和英特尔成为了首批尝鲜者。尽管台积电在接收时间上稍晚于英特尔,但其对新技术的热情丝毫不减。台积电计划将这款设备安装在新竹总部附近的研发中心,进行深入研究与工程准备,以确保在未来能够顺利投入商业生产。


值得注意的是,台积电在引入High NA EUV曝光机的同时,并未急于求成。相反,他们更注重技术的成熟与稳定,计划在未来的A10(10埃米)制程中,再行考虑使用该设备进行商业生产。


而英特尔方面,为了夺回芯片制造的领导地位,正全力加速制程技术的发展。他们不仅在美国俄勒冈州的研发中心率先架设了High NA EUV曝光机进行测试,还计划于2027年正式投入商业生产。

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