ASML出货第三台High NA EUV光刻机
来源:ictimes 发布时间:2 天前 分享至微信

ASML在其2024年第三季度财报中宣布,已向新客户交付了第三台High NA EUV光刻系统。尽管某些细分市场的复苏速度较慢,ASML对其长期前景依旧保持乐观。


ASML的CFO戴厚杰提到,客户对新型NXE:3800E Low NA系统的需求增加,该系统吞吐量比前代型号高出37%,预计2025年初开始交付。


High NA EUV光刻机具有更高的分辨率和晶体管密度,售价约为3.5亿美元,远高于标准EUV系列。ASML已完成前两台设备的现场验收测试,第三台设备正在交付中。客户已使用这些系统曝光了约10000片晶圆。


尽管AI领域继续推动增长,其他市场复苏缓慢导致客户需求延迟,特别是在逻辑市场。存储市场的产能扩张有限,尽管对先进技术如HBM和DDR5的需求强劲。ASML预计中国区业务将呈现更常态化水平,2024年第三季度订单量为26.3亿欧元,预计2025年净销售额在300亿至350亿欧元之间。


ASML将2025年的毛利率预测从54%至56%下调至51%至53%,反映了对Low NA EUV设备需求的减弱。公司仍预计EUV设备服务利润率将提高,并预计2025年将确认首台高产量EXE:5200设备的收入。

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