三星电子即将引入首款High NA EUV光刻机
来源:ictimes 发布时间:2024-10-31 分享至微信
据报道,三星电子正准备于2025年初推出其首款High NA EUV(极紫外)光刻机。这项由荷兰ASML提供的尖端技术,标志着三星在先进芯片制造领域迈出了重要一步。
High NA EUV设备每台售价高达3.5亿美元,拥有8mm的分辨率,能够实现三倍于低NA系统的晶体管密度,显著提升制造能力。三星首款EXE:5000型号的光刻机预计将在2025年第二季度投入使用,这将为未来更精细的电路设计奠定基础,尤其适用于5nm以下的系统半导体。
通过与IMEC的先前合作,三星已在电路处理方面积累了经验,为这一新设备的引入做好了充分准备。三星计划在2027年前实现1.4nm工艺的商业化,这一目标将为更先进的1nm生产铺平道路。
随着英特尔和台积电也在积极争夺High NA EUV设备的市场,三星虽来得稍晚,但其稳定的生产能力将是赢得竞争的关键。三星已表示,将根据实际需求调整初始订单,计划不久后推出专用的量产设备。
[ 新闻来源:ictimes,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦,快来评论一下吧!
ictimes
聚焦于半导体行业芯闻
查看更多
相关文章
ASML第三台High NA EUV光刻机出货
2024-10-18
ASML出货第三台High NA EUV光刻机
2024-10-20
ASML成功安装两台High NA EUV光刻机
2024-10-10
High NA EUV曝光机即将交付
2024-11-04
ASML揭示High NA EUV光刻机进展与英特尔合作成果
2024-10-13
热门搜索