ASML在其2024年第三季度财报中宣布，公司已向新客户交付了第三台High NA EUV光刻系统。尽管某些细分市场的复苏速度较慢，ASML对其长期前景保持乐观态度。
ASML CFO戴厚杰表示，客户对Low NA系统中NXE:3800E的偏好日益增加，其吞吐量比前代型号高出37%，预计2025年初开始交付。
High NA EUV光刻机的售价约为3.5亿美元，远高于标准EUV系列，其分辨率和晶体管密度是Low NA系统的三倍。ASML即将完成前两台设备的验收测试，第三台设备正在交付中。客户已使用这些系统曝光了约10000片晶圆。
尽管AI推动了强劲增长，其他细分市场的复苏较慢，导致对光刻系统的需求延迟。ASML预计中国区业务将呈现常态化水平，并对半导体行业的长期增长前景及在光刻系统领域的领导地位充满信心。2024年第三季度订单量为26.3亿欧元，预计2025年净销售额在300亿至350亿欧元之间。
ASML将2025年的毛利率预测从54%至56%下调至51%至53%，反映了对Low NA EUV设备需求的减弱。尽管面临挑战，ASML仍对其长期增长持乐观态度，得益于人工智能和能源转型等长期趋势，预计对光刻系统的需求将继续增长。
