近日，佳能其自主研发的纳米压印光刻（NIL）微影设备“FPA-1200NZ2C”成功出货至美国半导体行业联盟TIE，标志着这一创新技术在商业应用上的正式启航。
自佳能宣布于2023年10月启动NIL微影设备销售以来，此次出货不仅是其市场战略的初步胜利，更是对传统极紫外光（EUV）光刻技术的一次有力挑战。尤为值得一提的是，该设备的定价仅为ASML EUV微影设备的几分之一，被业界誉为“平替版”EUV设备。
佳能这款NIL微影设备凭借其独特的成本优势和技术潜力，被寄予厚望能够在未来3-5年内实现年销售量两位数增长。它不仅能够支持当前主流的5nm芯片生产，更具备通过进一步改良，迈向2nm时代的能力。
然而，值得注意的是，纳米压印技术并非EUV技术的直接替代品。由于其对规则性结构如DRAM和NAND FLASH的适应性更强，而在逻辑芯片领域的应用相对有限，因此佳能明确表示，其目标并非全面取代EUV，而是寻求与EUV及其他先进技术并存互补的发展路径。
