ASML推进High NA EUV研发,助力客户降本增效
来源:ictimes 发布时间:一周前 分享至微信
ASML深耕High NA EUV技术超十年,正迈向商用化。在SEMICON Taiwan上,ASML展示了基于0.33NA EUV成功经验的High NA EUV(0.55NA)新技术。
为减少客户风险,ASML在光源、系统真空等方面保持原设计,主要优化客户需求。
High NA EUV预计能显著降低光罩使用量和能耗,至2029年每片晶圆生产可省200度电,总能耗降至100度。虽价格较高,但曝光次数减少,客户成本可降低约30%。ASML正努力降低技术成本。
High NA EUV由四大模块组成,多国合作研发与验证,确保满足各客户独特需求。ASML与Imec合作设立High NA实验室,提供全方位解决方案。目前,High NA EUV已验证其可行性,正加速平台成熟化,展示其卓越价值。
High NA EUV在性能上表现出色,光罩平台模块加速度惊人,打印精度和线宽均匀度均达行业领先水平,ASML承诺达标后才出货,确保客户满意。
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