三星减少EUV设备引进,与ASML联合研究中心计划生变
来源:ictimes 发布时间:2024-08-21 分享至微信
三星电子近期通知ASML,将减少计划引进的下一代高NA EUV光刻设备数量,这一决定可能会对双方在首都地区建立的EUV联合研究中心造成影响。此前,韩国总统尹锡悦在访问荷兰时,三星电子与ASML签署了建立联合研究中心的谅解备忘录,作为韩荷半导体合作的一部分。
三星电子最初计划购买多台不同型号的下一代EUV设备,但现在决定仅引进EXE:5200型号,并可能在未来重新考虑引进其他版本。这一调整是在三星电子DS部门新任负责人全永铉审查项目和投资后作出的。
目前,由于设备引进计划的减少,联合研究中心的建设进程已暂停。知情人士透露,未来该中心是更换地点还是取消建设,将由双方进一步讨论决定。尽管合作计划有所调整,三星电子方面仍表示,引进ASML High NA EUV设备的计划保持不变,研发中心的建立也将继续。
三星电子与ASML的合作原被视为确保先进EUV设备供应的战略举措,对先进半导体生产至关重要。ASML作为全球唯一生产EUV光刻设备的公司,其与三星的合作对半导体行业具有重要影响。此次合作的缩减可能会影响韩国国内半导体生态系统及相关行业。
业内人士指出,如果合作计划得以执行,三星电子将有机会引进最先进的EUV设备,并近距离观察技术的开发过程。计划的修改可能会导致这些机会的丧失。减少设备引进和暂停研发中心建设反映了三星在新任DS部门负责人上任后半导体业务战略的转变,也可能对全球半导体供应链和行业竞争产生更广泛的影响。
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