日本半导体业加速EUV设备引进,ASML日本团队扩容五成
来源:ictimes 发布时间:2024-07-23 分享至微信
随着日本半导体产业对极紫外光(EUV)曝光机需求的激增,ASML宣布将日本子公司员工数于2026年扩充至600人,增幅达五成。
这一举措旨在支持Rapidus、美光及台积电子公司JASM等企业在日本引进EUV设备,标志着日本在先进半导体生产领域的显著进展。
Rapidus计划在北海道建设的首座晶圆厂将于2024年底前完工,并引入ASML的EUV曝光机,这是日本首次引入此类高端设备。
美光亦将于2025年在广岛工厂部署EUV设备,以生产最尖端的DRAM及高带宽存储器。
ASML不仅在客户工厂附近增设服务据点,还计划在Rapidus工厂附近设立新据点,初期派遣30人,随着2027年2纳米芯片量产计划推进,人员将增至50人。此举深受日本政府补贴政策推动,旨在提升日本在全球先进芯片制造领域的竞争力与经济安全。
Rapidus和美光的项目均获得日本政府大额补贴,进一步加速了EUV曝光机在日本的应用。
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