比利时微电子研究中心Imec宣布，利用ASML开发的高数值孔径极紫外光（High NA EUV）设备，成功在单次印刷中实现了比现有商业化技术更精细的电路制作，预示着该设备在未来制程节点中的广阔应用前景。

据Imec透露，High NA技术不仅在逻辑和存储器芯片制造上展现了显著优势，还与其他晶圆制造流程中的化学材料及设备兼容，预示其商业化生产的可行性。全球领先的芯片制造商如台积电、三星、英特尔等已纷纷订购High NA设备，以推进制程微缩。

尽管High NA设备价格高昂，每台售价高达3.5亿欧元，但其能以更少步骤实现更小电路制作的能力，仍为晶圆制造业带来了巨大吸引力。