英特尔加速布局未来科技,High NA EUV设备再下一城
来源:ictimes 发布时间:2024-08-07 分享至微信

在科技巨头竞相布局下一代芯片技术的浪潮中,英特尔再次迈出坚实步伐。近日,英特尔CEO帕特·基辛格宣布,公司即将迎来第二台价值不菲的High NA EUV设备入驻俄勒冈工厂,标志着其在尖端制造技术上的又一次重大飞跃。此设备由全球领先的半导体设备供应商ASML精心打造,总价高达3.83亿美元,不仅彰显了英特尔对技术创新的坚定承诺,也预示着其在芯片制造领域的竞争力将进一步提升。


基辛格先生的发言中透露出对技术投资的满满信心,他提到的“良好早期迹象”无疑为市场注入了一剂强心针。在全球芯片市场风云变幻之际,英特尔的这一举措无疑为其在激烈竞争中赢得了宝贵的时间与空间。


值得注意的是,ASML的High NA EUV设备被誉为半导体行业的“未来之星”,其成功推出并商业化应用,将对整个科技产业产生深远影响。英特尔计划于2027年前将这一先进技术应用于商业生产,这不仅将极大地提升芯片的制造效率与性能,更将助力公司在全球芯片市场中占据更有利的位置。


此外,台积电、三星电子等全球顶尖芯片制造商也纷纷加入High NA EUV技术的怀抱,预示着这一领域即将迎来一场前所未有的技术革命。而英特尔作为行业内的领头羊,其每一步战略都显得尤为关键。



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