随着日本即将迎来首批极紫外（EUV）光刻机的引进，全球光刻机巨头ASML宣布将显著扩大其在日本的业务布局。据日媒报道，ASML计划至2026年将其日本子公司的员工规模扩充至600人，较现有员工数激增50%。此轮扩张主要受日本多家半导体企业如Rapidus、美光和台积电子公司JASM等引进EUV系统需求的驱动。
Rapidus将于2024年底在北海道建立晶圆厂并引入ASML的EUV光刻机，标志着日本半导体制造业进入EUV时代。美光科技也计划在广岛工厂部署EUV设备，以加速先进DRAM和HBM产品的生产。ASML为此将在日本增设多个服务中心，包括在Rapidus工厂附近建立的新站点，初期配备30名员工，并计划随2nm芯片量产增至50人。
日本政府的慷慨补贴是推动半导体企业扩张的关键因素，旨在重振本土芯片制造业。ASML的增员计划亦响应了JASM等企业的需求，后者正加速建设先进工艺芯片工厂，亟需EUV设备的专业维护与支持。市场预测显示，EUV光刻市场将在未来几年内持续高速增长，至2028年市场规模有望达到252亿美元。
