其中，在广岛县工厂内的1-gamma （1γ）技术节点的最新DRAM产线，将引进极紫外光（EUV）微影机，预计2026年量产。

针对这项5,000亿日圆规模的投资计划，日本经产省预计，将提供最高1,920亿日圆的补助金。这项决定将很快对外公布。

其中，最新DRAM的量产，补贴1,670亿日圆；生成式AI等最先进应用所需的最新半导体，补贴250亿日圆的研发费。

日本经产省为了加强日本境内的半导体投资，增加半导体供应链稳定与经济安全，已确保2年内2万亿日圆补贴金的预算。

原本日本经产省已补助美光广岛DRAM工厂465亿日圆，现在若再加上新的补贴，将使美光在日本获得的补助额增加4倍，达到最高2,385亿日圆的规模。

美光获得日本政府2021年度预算，约465亿日圆补助金的那次补贴案，同时还有台积电在日本熊本县设厂，以及铠侠（Kioxia）联手威腾（WD）在三重县四日市的NAND Flash新厂，都获得补贴。

责任编辑：范维君