英特尔率先搞定高数值孔径极紫外光刻量产

据报道，阿斯麦（ASML）近期对外披露，英特尔晶圆代工业务依托其高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻设备，已经在Intel 18A工艺节点顺利投产了部分代号为Panther Lake的酷睿Ultra 3系列处理器。此举标志着英特尔正式成为全球范围内第一家达成该类逻辑芯片大规模出货的厂商。

阿斯麦与英特尔共同指出，目前Intel 18A的部分工艺层已经顺利通过了High NA EUV的双重验证。其生产良率也追平了当前主流的NXE EUV平台标准。未来，双方还会把这项先进工艺推广到更先进的制程节点中。

作为对比，据媒体此前消息，针对市场上关于台积电暂缓引入High NA EUV设备的传闻，台积电董事长魏哲家曾在股东大会上予以否认。他明确表示企业早已采购了相关机器，并未停止投资，仅仅是现阶段尚未将其导入量产环节。主要原因在于该设备使用成本偏高，现有生产流程暂无迫切需求。目前，台积电正致力于压缩相关开销，力求在正式投产前将High NA EUV的经济效益发挥到最大。