据日经新闻（Nikkei）报道，东京应化工业（TOK）正聚焦生成式AI半导体相关材料的研发与生产，并计划在韩国设立新厂，以满足市场需求。
东京应化社长种市顺昭表示，生成式AI半导体材料的需求主要分为两类。一类是用于GPU等处理器的极紫外线（EUV）曝光材料，该领域需求增长迅速；另一类则是针对先进封装技术的材料，包括小芯片（Chiplet）和高带宽存储器（HBM）等，东京应化在这些领域已占据市场优势。
韩国的新厂项目是东京应化的重要投资之一。公司计划在首尔近郊的平泽市投资120亿日圆（约合0.77亿美元），建设一座高纯度化学品工厂，预计2027年动工，2028年完工，2030年正式投产。种市顺昭指出，选择平泽市的原因在于，若选址更远，将难以确保足够的人才资源。此外，东京应化还计划在同一厂区内建设一座新的光阻剂工厂。
与此同时，东京应化正在日本福岛县郡山市的郡山工厂兴建一座新的光阻剂工厂，投资金额超过200亿日圆。这座工厂将成为韩国平泽新厂的参考范本，两座工厂规模相近，且平泽的光阻剂工厂若建成，可与高纯度化学品工厂共享部分设施，从而降低设厂成本。
在光阻剂领域，东京应化正通过增设产线和产品更新，全力提升产能。福岛县郡山市、栃木县宇都宫市和静冈县御殿场市的三座工厂均在进行零星累积型投资，以满足市场需求。
全球半导体材料光阻剂市场中，东京应化工业、JSR、信越化学工业（Shin-Etsu Chemical）、住友化学（Sumitomo Chemical）和富士软片（Fujifilm）等5家日本企业合计占据9成市场份额，其中东京应化的市占率最高。
在高纯度化学品领域，由于运输成本较高，东京应化推行“在地生产、在地消费”策略。目前，公司已在中国台湾地区、美国、中国大陆和日本完成布局，韩国的120亿日圆投资将进一步完善其全球生产网络。
