ASML：没有向中国市场推出特别版光刻机

集微网消息，近日消息人士称，荷兰推出并即将实施出口限制，ASML可能会发布其TWINSCAN NXT:1980系列DUV光刻工具的调整版，以减轻对中国芯片制造商的影响，并满足荷兰禁止向中国客户出口28纳米以下工艺制造的要求。

对此，ASML向爱集微回应指出，一直以来ASML都遵守所适用的法律条例，我们并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。

据悉，6月30日，荷兰政府颁布关于半导体设备出口管制的最新条例，部分媒体将此理解为针对中国的光刻机管制再次升级至所有DUV，实际上这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

ASML在给集微网的一份声明中强调，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及部分最新DUV型号，包括TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。EUV光刻机在此前已经受到限制，其他系统的发运未受荷兰政府管控。

“新颁布的管制条例今年9月1日生效，现在ASML可以开始提交出口许可申请；9月1日之后，管制条例涉及的设备型号出口需向荷兰政府提交出口许可申请，由荷兰政府决定是否批准授予许可证。”ASML方面告诉集微网。

（校对/张杰）