国产光刻机迈出实质性一步，28nm纯国产有希望了

近两个多月，很多美企对俄暂停供货或停止服务，尤其是半导体方面更是重点。对此，我们必须引起重视，因为我们的大部分芯片还是依赖进口，在进口商品中排第一。

尽管我们有中芯国际、华虹半导体等晶圆代工企业，但芯片制造的不少设备和材料等依然依赖国外，就连28nm芯片都还不能做到纯国产。不过，这个情况快要改变了。

28nm纯国产芯片有希望了

前些天，俄方面制定了半导体产业发展规划，将于2030年实现28nm自主化生产。对此，有网友还指出俄地区芯片制造太落后了，28nm我们早实现了，14m都量产了。

但殊不知，大陆技术最先进的中芯国际尽管能够生产，但目前还实现不了纯国产化。

虽然中芯国际近两年的业绩不错，抓住了当前的发展重点，大举扩产28nm及以下成熟制程，但在设备等方面依然受到限制，一旦人家扩大制裁范围，就有可能瞬间停摆。

当然，这并不是中芯国的能力不行，而是因为我们国内芯片产业链的整体相对落后。

我们都知道，尽管台积电、三星都已经量产5nm制程，但如今市场上的主流需求依然是28nm芯片。如果28nm制程能够实现全国产化，大部分的芯片就不受限制了。

那么，目前国内28nm纯国产芯片生产线能够实现吗？可以说纯国产有希望了。对于芯片制造来说，最重要的就是要解决前道工序所需要的设备和涉及到的材料国产化。

主要就是八大设备和八大材料。其中八大材料为：硅片、电子特气、光刻胶、光掩膜版、湿电子化学品、CMP抛光材料、靶材、前驱体。除极个别外，大部分可国产化。

沪硅产业能量产硅片，南大光电已解决光刻胶，极个别材料也能解决，限制不了。

还有八大设备：扩散设备、薄膜沉积设备、光刻机、刻蚀机、离子注入设备、CMP抛光设备、清洗和测试设备。从目前情况看，除了光刻机外， 28nm国产都没问题。

国产光刻机迈出实质性一步

简单介绍下国产芯片制造设备进展情况：扩散设备、薄膜沉积设备，北方华创最高可实现14nm工艺；刻蚀机就更没问题了，中微半导体已经实现5nm，台积电都在用。

离子注入设备，中科信、凯世通最高能实现22nm；CMP抛光设备， 国内最好的是华海清科，28nm没问题，清洗设备，北方华创、盛美半导体的技术28nm都可以。

测试设备即前道检测设备，睿励科学已应用在28纳米产品线，14纳米正在验证中。

最主要的光刻机，上海微电子的前道设备最高可达90nm，正在研发28nm光刻机。

从以上情况来看，除光刻机外，国产的设备技术节点都可以达到28nm，有的已经达到14nm。据说，90nm光刻机通过多重曝光也可以做出28nm，只是成本高良率差。

因此，最关键的还是要突破国产28nm光刻机。而光刻机要突破，就要解决四个核心部件，即光源设备、物镜系统、浸液系统和双工件台，其中光源是光刻机最关键设备。

好消息是，北京国望光学有了新进展。两个月前，国望光学的超净室工程开标。近日，又发出招标公告，这意味着开始进入到设备导入阶段，接下来就能实现产品的量产。

国望光学的这个生产基地量产后，将能够推出包括28nm在内的多个光学曝光系统。

一旦国望光学的28nm光学曝光系统实现量产，那么国产28nm光刻机又迈出了实质性的一步，这为实现国产浸润式光刻机解决了一大问题，也就是需求最大的DUV。

还有物镜系统，中科院长春光机所和上海光机所也有了突破性进展。浸液系统，浙江大学实验室和启尔机电进展也不错。还有双工件台，清华大学和华卓精科已经解决。

据专业人士预判，28nm芯片很快纯国产，14nm也不会太远，看来希望越来越近！

新闻来源：百家号，文中所述为作者独立观点，不代表icspec立场。更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议，请联系微信客服specltkj。