“国家队”出手，国产EUV光刻机迎重大突破，ASML时代正在落幕？

受买办观念影响，在过去几十年里，“缺芯少魂”一直是我国信息产业的短板，尤其是半导体芯片等硬件实施，为满足水涨船高的市场需求，我们这些年不止一次的提升进口规模，花费高价采购美企的技术和产品。

据公开资料显示，自2019年以来，我国半导体芯片市场的年均进口额均突破了3500亿美元，约合2.4万亿人民币。

这是个什么概念？如果按照辽宁号航母的造价成本，足足能造出42艘！这足以看出提升国产芯片自给率的重要性，不仅能省下一大笔支出用在更关键的领域，还能解决华为等中企遭遇的芯片“卡脖子”之痛。

然而，由于起步较晚，在一些核心半导体设施方面，我们远远落后于西方国家，而且还被实施了严密的技术封锁，即便我们高价收购，可人家却拒绝出售。

特别是全球唯有ASML能生产的EUV光刻机，这是传统高端芯片制造不可或缺的设备，中芯国际在4年前就预定了一台且交付了1.2美元的定金，可由于老美的干预，该设备至今也未能到货。这导致中芯国际、华虹半导体等国产晶圆厂，至今也没有迈入高端芯片市场。

不仅如此，老美还禁止在中国大陆市场经营的外企采购EUV设备，在前不久就叫停了SK海力士中国分厂引入EUV光刻机的计划。其目的是为了防止高精尖技术设备流入大陆市场的一切可能。

面对这样的情况，我国决定自研高端光刻机，而且还派出了研发团队赴ASML的荷兰总部取经，可没想到换来的却是冷嘲热讽，ASML技术工程师表示：就算是把设计图纸给中国，你们也造不出来。

对于ASML的冷嘲热讽，国内专家给出了不同意见。有人认为EUV光刻机涉及的供应链太过广泛，其含有超过55%以上的美技术，核心组件更是来自于全球30多个国家的5千多家供应商，仅凭我们一己之力很难完成。

也有专家认为，ASML这是有意在打击我们研发EUV的积极性，实则它内心慌得一匹，因为一旦我们研发出了高端国产光刻机，那么物美价廉的中国设备，将会冲击到ASML的市场地位，甚至是完成对它的替代。

但对于此刻饱受美芯“卡脖子”之痛的国内市场而言，无论EUV设备的研发有多难，我们都必须迎难而上，完成突破。

正是抱着这个信念，中科院这家被誉为“国家队”的国内最高水平的科研机构出手了。为此，中科院集中了全院优势科研力量，成立了专项技术攻关小组，还将EUV技术列入了紧急任务科研清单。

而就在近日，有重磅消息传出，国产EUV的研发迎来了重大突破。据悉，中科院旗下的上海光机所，不仅攻克了米级光栅大口径离轴反射曝光技术，而且还打破了海外市场对多个专项核心光学元器件的垄断。

结合清化大学等高校此前对EUV光源、物镜等核心技术的理论知识突破，国产EUV光刻机的雏形已现。

虽然EUV设备号称有超过10万个的精密配件，但我们对EUV相关技术的布局也并非是近两年才开始的，尤其是在光学系统以及基础学科方面，上海光机所、长春光刻机、北京国望光科、上海微电子、东方晶源微电子等等，都有着一定的技术储备。

正所谓团结一心、其利断金，就算EUV光刻机的研发很难，配件很多，可它还能多得过航母不成？

尽管ASML在EUV设备产线上的技术占比不超过10%，更多的是他国技术，可作为全球唯一一家EUV设备整合商，它在很大程度上左右着芯片市场的格局。从这个角度来看，ASML本应有一个光明的未来，但事实却是，ASML时代正在落幕！

除了我国，近段时间遭遇大规模断供事件的俄市场，也决定投入大量资金研发自主可控的无掩模X射线光刻机。X射线有别于极紫外光波，前者波长更短，理论上其曝光精度也就更好。

另外，佳能、铠侠等芯片厂商联合推出了绕开EUV设备的NIL工艺，预计在2025年便可实现5nm工艺芯片的量产。

值得强调的是，小芯片技术体系也日趋成熟，通过先机的封装工艺，用堆叠的方式，以不是那么先进的设备，同样可以提升芯片性能。目前台积电、苹果、华为都在该领域取得了不错的技术成果。

甚至就连欧洲市场也开始挑战ASML光刻机的地位，由德国Q.ANT公司联合14家当地头部半导体企业，成立了研发电子芯片技术的“PhoQuant”项目。

这一切的一切足以说明ASML的EUV设备正在加速被替代。

而造成这一局面的根本原因，表明上看是由于传统芯片逼近了物理极限，为了降低制造成本，各大厂商不得不寻求新的方面。但主要却是因为老美修改规则，导致ASML无法自由出货，很多地区为长久计，都在有意降低对美技术的依赖。

ASML作为一家以盈利为目的的科技企业，它虽然不想看到这种情况的出现，但却也无力阻止。