投资6.7亿卢布，俄罗斯宣布研发X射线光刻机！比ASML的EUV光刻机还要先进？

光刻机是半导体行业的明珠，美国希望在这个领域牢牢掌握主动权，因此对中俄等均进行严格的限制和制裁，中国一直没有最先进的EUV光刻机。而在俄乌冲突之际，昨天，美国更是对俄罗斯最大的芯片制造企业Mikron进行全方位制裁。近日，据俄罗斯媒体报道称：俄罗斯将研发当前全球最先进的X射线光刻机，或许比ASML的EUV光刻机性能更先进。

投资6.7亿卢布

据报道，俄罗斯莫斯科电子技术学院 (MIET)承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）。研发的光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机。

“MIET已经在无掩模EUV光刻领域取得了进展，包括与国内其他科研机构和科学家团体联合开展的研究。该项目还将涉及 Zelenograd 公司 ESTO 和 Zelenograd 同步加速器，现在是国家研究中心库尔恰托夫研究所的技术储存综合体 (TNK) Zelenograd。

“基于在该国运行和发射的同步加速器，特别是在 TNK Zelenograd 的同步加速器以及国内等离子源的基础上，创造技术和设备，将使处理具有设计标准的半导体晶片成为可能28 nm、16 nm 及以下，”声明说。招标文件包含这项研究工作（研发）的要求。“无掩模X射线纳米光刻技术和正在开发的设备在国内和世界上都没有类似物。”

工贸部与 MIET 签订的合同价格为 6.7 亿卢布。

“我们谈论的是长期的研发工作，从好的方面来说，这应该在 15 年前就开始了，”关于这个项目的 Stimulus 杂志出版物的作者 Alexander Mechanik说。”

俄罗斯光刻机技术

目前，EUV光刻机全球只有ASML公司能够研发、生产，但它的技术限制也很多，俄罗斯计划开发全新的EUV光刻机，使用的将是X射线技术，不需要光掩模就能生产芯片。

光刻机的架构及技术很复杂，不过决定光刻机分辨率的主要因素就是三点，分别是常数K、光源波长及物镜的数值孔径，波长越短，分辨率就越高，现在的EUV光刻机使用的是极紫外光EUV，波长13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先进工艺工艺。

技术优势

X射线光刻机使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高很多。

此外，X射线光刻机相比现在的EUV光刻机还有一个优势，那就是不需要光掩模版，可以直写光刻，这也节省了一大笔费用。

正因为有这么两个特点，俄罗斯要研发的X射线光刻机优势很大，甚至被当地的媒体宣传为全球都没有的光刻机，ASML也做不到。

从相关资料来看，全球确实没有能达到规模量产的X射线光刻机，不过这种技术并不是现在才有，不仅美国、欧洲研究过，国内也有科研机构做了X射线光刻机，只是生产芯片的效率跟ASML的光刻机不能比的，只适合特定场景。

不过俄罗斯在X射线及等离子之类的技术上有着深厚的基础。

莫斯科电子技术学院

国立研究型大学“莫斯科电子技术学院”（俄语：Национальный исследовательский университет «Московский институт электронной техники»），简称莫电子（МИЭТ，MIET），是俄罗斯的一所国立研究型高等院校，1965年建校。特色学科为微电子学、信息技术和计算机工程。

MIET 开展的研究和开发领域由大学的专业培训领域有：

• 电子学和纳米电子学

• 无线电工程

• 材料科学与技术、纳米材料

• 技术领域安全

• 信息学和计算机工程

• 技术系统中的控制

• 信息安全

• 生物技术系统和技术

• 信息通信技术和通信系统

• 微纳米系统技术

• 电子手段的设计与技术

• 应用信息学

• 软件工程

• 管理

学院共有学生6500多人，其中研究生250多人、副博士（按照欧美及中国学制为Phd学位）270人、博士5人。

1965年12月9日，根据前苏联高等教育部命令正式成立。

1966年，莫斯科矿业学院教授列昂尼德·叶尔绍夫被委任为代理校长。同年9月，招收了第一批学生。

1974年，雕塑家恩斯特·涅兹韦斯特内伊对主楼图书馆的外墙进行了装饰。

1984年，获授劳动红旗勋章。1992年苏联解体后，获得俄罗斯国立高等院校的地位。

2010年4月，通过俄罗斯教育科技部的“国家研究型大学”标准化考核。

2011年，更名为现在的“莫斯科电子技术学院”。

据官方介绍：

“MIET”是俄罗斯高科技领域领先的技术大学。现代实验室、对教育过程的全新认识以及教育、科学和工业的独特整合，使 MIET 成为微电子和纳米电子、电信和信息技术领域培训专家的领导者。该大学是俄罗斯大学发明活动排名中最强大的三所大学之一，是莫斯科国立大学排名中排名前五的技术大学之一，也是著名的英国出版物《泰晤士报》排名前 20 位的俄罗斯大学之一高等教育。

现在，MIET是一所拥有半个世纪历史和传统的高等教育机构。这是一所关心学生个人和职业成长、身体发育、心理舒适、健康和安全的大学。这是未来科学家和企业家寻求支持并迈出成功第一步的地方。这是一种让毕业生对劳动力市场充满信心并在生活中实现自我的教育。

俄罗斯研发EUV的成功概率有多大？

俄罗斯的半导体芯片产业并不发达，但是并不代表俄罗斯的科技能力差。众所周知，俄罗斯拥有全世界最顶尖的数学人才，华为俄罗斯研发中心都聘请了数名顶尖俄罗斯数学家，坊间盛传当年华为3G技术的突破就是得益于一位俄罗斯数学家“小哥”的SingleRAN 算法。

因此，尽管业界并不看好俄罗斯研发EVU光刻机的前景，但有着丰富技术人才的俄罗斯并不是不可能，况且，俄罗斯真金白银投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币），对于发达国家来说虽然很少，但首期投入这么多资金，对于俄罗斯的薪资水平和试验设备来说是不低的。

同时，笔者Challey认为，如果俄罗斯真的投入研发，很多其他国家，譬如中国，或许会加入俄罗斯的EUV光刻机研发之中，以打破欧美对于最先进芯片技术的垄断。

但是，另一方面，据估计，自俄乌冲突以来，有多达7万名计算机专家被突然出现的商业和政治气候的冰霜所吓倒并离开了俄罗斯。

或许，俄罗斯未来需要担心的不是资金，而是人才的回流。