台积电引进High NA EUV设备,不急于将其投入商用生产
来源:ictimes 发布时间:2024-11-04 分享至微信
台积电已证实将引进ASML新一代High NA EUV设备,计划于2024年第4季在新竹研发中心安装。尽管未透露交货时间及生产细节,但台积电表示将仔细评估新技术和设备的成熟度、成本及客户利益。
台积电计划先引入High NA EUV进行研发,开发客户所需的基础设施和图案化解决方案。
然而,台积电并不急于将其投入商用生产,只有在推出10埃米(A10)生产技术后,才可能考虑。据悉,A10制程技术预计将在2030年后推出,超前于2025年底投产的2纳米制程技术两代。
尽管目前没有采用最新版High NA EUV设备的迫切需要,但台积电仍保留进行全面技术量产可能性评估及工程任务的机会,并采用业界最先进设备进行试运行。
[ 新闻来源:ictimes,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦,快来评论一下吧!
ictimes
聚焦于半导体行业芯闻
查看更多
相关文章
三星将引进High-NA EUV设备,加速1纳米级商用化研发
2024-10-31
High NA EUV曝光机即将交付
2024-11-04
ASML第三台High NA EUV光刻机出货
2024-10-18
ASML成功安装两台High NA EUV光刻机
2024-10-10
ASML出货第三台High NA EUV光刻机
2024-10-20
热门搜索