SK海力士计划2025年量产400层NAND,挑战技术极限
来源:ictimes 发布时间:2024-08-06 分享至微信
SK海力士宣布了其雄心勃勃的NAND Flash生产计划,计划在2025年突破400层堆叠技术,并已开始构建相关供应链。该公司正与合作伙伴共同研发,预计2025年底前完成量产准备。此前,SK海力士已成功展示321层4D NAND样品,并计划上半年量产。
为实现这一目标,SK海力士将采用混合键合技术中的晶圆对晶圆(W2W)技术,以克服高温高压难题,稳定提升NAND层数。此举也将为供应链带来新变革,吸引更多封装材料、零组件和设备厂商加入。
同时,SK海力士还推出了新一代显存产品GDDR7,预计第三季度量产,性能显著提升,将广泛应用于图形处理、AI、高性能运算等领域。三星电子也在探索类似技术路径,考虑将混合键合技术应用于下一代NAND生产。
[ 新闻来源:ictimes,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦,快来评论一下吧!
ictimes
聚焦于半导体行业芯闻
查看更多
相关文章
SK海力士HBM4量产定档2025下半年,16层技术双轨并进
2024-09-04
SK海力士即将量产12层HBM3E芯片
2024-09-05
SK海力士加速研发下一代NAND闪存,2026年量产
2024-08-05
SK海力士大连NAND厂坚守FG技术,加码QLC生产
2024-09-06
SK海力士聚焦HBM投资,面临财务挑战
2024-08-06
热门搜索