导 读
据 Yole Group 预测,从 2023 年到 2027 年,SiC 器件市场的复合年增长率 (CAGR) 将增长约 30%。因此,根据 Yole Group 和内部 Veeco 的估计,预计 SiC 外延设备市场同期复合年增长率将达到约 15%。
2月1日消息,据外媒报道,Veeco Instruments Inc. 今天宣布,公司于 2023 年 1 月 31 日收购了 Epiluvac AB。
据悉,Epiluvac是一家化学气相沉积 (CVD) 外延系统的私营制造商,可在电动汽车市场上实现高级碳化硅 (SiC) 应用。Epiluvac 总部位于瑞典,由一支在 SiC 领域经验丰富的团队于 2013 年创立。Epiluvac 的技术平台与 Veeco 的全球上市能力相结合,为 Veeco 创造了重要的长期增长动力。
Epiluvac 产品
Epiluvac是一家拥有11名员工的早期收入公司。该交易的购买价格全部以现金支付,在交易完成时支付3000万美元,并可能有额外的3500万美元的基于业绩的奖励。预计2023年对Veeco的财务业绩影响不大,预计2024年开始有批量收入。
在 Epiluvac 的新一代 WBG CVD 系统中,晶圆在 900 摄氏度下装入生长室。这减少了循环时间,延长了石墨部件的寿命并减少了颗粒的产生。为避免温度冲击,将晶圆预热至 900 C,并在处理后以受控方式冷却。这些是降低运营成本的独特功能。这只是新 ER3 平台的几个独特功能之一。
Epiluvac用于 SiC 和 GaN 的 CVD 外延反应器
■SiC外延系统
Epiluvac ER3-C1
• 最大200 mm (8”) 晶圆直径
• 通过热壁拓扑实现出色的均匀性
• 先进的动态气流控制可实现最佳生长速率和掺杂均匀性。
• 具有多个加热区的出色温度曲线
• 不含石英,适用于氯化工艺
• 在清洁的惰性气氛中进行热晶片装载/卸载可最大限度地减少颗粒污染并延长石墨部件的使用寿命
• 在集群配置中具有两个、三个或四个反应器的模块化设计。每个反应器都针对特定的生长步骤进行了优化
• 在受控环境中,反应器之间的晶圆运输
• 高达 1800 °C
• 适用于中小批量生产和研发
Epiluvac EPI 1000-C
• 热壁 CVD 具有出色的均匀性
• 基材直径达 150 毫米
• 单晶片和手动装载
• 非常适合研发
■GaN外延系统
Epiluvac ER3-N1
• 上述ER3-C1 系统的GaN 版本。
• 可选的现场监测。
• 获得专利的温度控制,以最大限度地减少晶片弯曲。
• 卓越的过程结果。
▲ 本文参考来源:marketscreener / Epiluvac / 芯TIP
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