富士:将在美投资3.5亿美元发展半导体材料
来源:半导体产业网 发布时间:2016-01-01 分享至微信
《科创板日报》14日讯,半导体材料厂商富士(FUJIFILM)宣布对其美国业务3.5亿美元的投资计划,将用于产能扩展和产品研发,以满足当地市场长期需求增长。富士方面表示,产能投资将用于该公司在亚利桑那、罗德岛、得克萨斯和加州的现有设施扩建,提高CMP浆料和光刻工艺相关高纯材料生产能力。
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