据熟悉半导体产业链人士透露，上海爱晟纳电子科技集团自主研发的28纳米浸没式深紫外（DUV）光刻机，已经顺利完成首批5台设备的交付工作。这标志着国产光刻设备正逐步从技术研发阶段迈入晶圆厂量产验证环节。
在推进该28纳米DUV光刻机产业化的进程中，爱晟纳背后汇聚了一批拥有上海微电子装备（SMEE）背景的资深工程技术人才。据消息人士透露，其中不乏具备国家级专家背景的顶尖人士深度参与，全力推动设备的研发与工程化进程。这类高端人才在工程技术、科研创新及产业发展领域拥有长期积累，不仅技术能力出众，还熟悉国家政策与产业指导方向，具备从研发、整机试制到工程验证的完整经验。他们的跨机构协调能力以及对政策走向的敏锐判断，为设备从研发走向商业化提供了重要支撑。
业界人士指出，光刻机作为高度复杂的半导体前道设备，从设计开发到导入晶圆厂生产线，必须经过大量的工程调校与工艺验证。设备能否真正应用于量产，不仅取决于核心零部件的性能，更考验研发团队对设备可靠性、工艺适配性以及长时间运行稳定性的把控能力。国家级科研人物的亲自参与，有助于有效串联技术研发、工程制造与产业导入等关键环节。
首批5台28纳米DUV光刻机的交付，被市场视为国产光刻设备走向产业验证的重要节点。然而，设备交付并不意味着市场化导入的完成。后续仍需密切观察晶圆厂在实际应用中的设备可靠性、工艺稳定性及良率表现，最终结果有待各家晶圆厂的实际反馈。从上海微电子到爱晟纳，国产光刻设备产业的竞争已逐渐从单一的技术突破，延伸至工程人才储备、供应链整合及量产导入能力的综合较量，这也反映出国内半导体自主化布局正向着系统性工程建设方向深化。
