三星两台High-NA EUV设备闲置

据TrendForce报道，英特尔已率先把High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻）技术引入18A工艺的量产环节。相比之下，三星虽然已经引进了两台同类设备，但并未将其投入实际生产。

消息指出，三星于去年在华城厂区部署了首台High-NA EUV光刻机，并在今年上半年追加了第二台，整体投资规模超过1万亿韩元（约人民币45.57亿元）。目前这些高昂的设备并未进入量产阶段，其商业化应用处于停滞状态。

针对这一现象，业界分析认为这主要源于企业的财务规划，而非受制于技术障碍。自2022年起，三星的芯片代工业务持续亏损，但市场预期该业务有望在今年第四季度实现扭亏为盈。若此时启用新设备，将导致固定运营成本显著攀升，因此企业不愿在盈利前夕增加额外的资本开支。此外，其2纳米制程的良率已攀升至55%上下，逼近60%的行业稳定量产标准。

半导体设备领域的专家透露，当前的良率表现已具备部署新设备的条件。但在斩获更多大客户订单并夯实盈利基础之前，三星预计将继续保持谨慎的资本支出策略。

注：按1韩元≈0.004557人民币计算