韩国放宽EUV设备引进限制，审批时间大幅缩短

韩国政府近期对极紫外（EUV）光刻设备的引进审批流程进行了大幅简化。通过修订相关法规，该类核心半导体制造设备的安装周期由原先的34天压缩至9天。据韩联社及ZDNet Korea等媒体报道，韩国产业通商资源部宣布，《高压气体安全管理法施行令》的部分修正案已获批准。根据新规，符合国际安全标准的半导体生产设备将不再受限于高压气体一般制造设施的相关规范，转而采用“特定设备”的标准进行管理。

此前，由于EUV设备内部包含高压气体管路及相关装置，在韩国现行法律框架下被划归为“高压气体制造设备”。这导致每次安装此类设备都必须经历繁杂的技术审查与检验流程，不仅拖慢了设备投产进度，也加重了企业的运营负担。经过与半导体行业的多轮沟通并参考国际安全标准，韩国产业通商资源部决定将其调整为“特定设备”，并采用每三年进行一次工厂审查和综合工艺检查的替代方案，以维持同等的安全水平。

此次制度优化不仅使设备引进周期最多缩短了25天，还免除了向海外权威检验机构申请耐压及气密性检测的环节。据估算，单台设备由此可节省约5亿韩元（约人民币224.80万元），折合33万美元（约人民币223.77万元）的成本。

业内分析指出，这一法规调整将帮助三星电子和SK海力士等韩国头部半导体企业更及时地部署先进工艺设备并快速投入生产，从而巩固其在半导体领域的技术领先地位。韩国产业通商资源部部长金正官强调，此次修法在保障安全的同时提升了尖端产业的竞争力，未来将继续通过接轨国际标准的合理安全管理体系，全力支持高科技产业的投资与发展。该修正案预计在公布后即刻生效。

注：按1韩元≈0.0045人民币、1美元≈6.78人民币计算。