半导体业加速光阻剂国产化，应对日本出口风险

据法新社报道，中日关系紧张让国内半导体制造业者感到忧虑，尤其是对日本光阻剂的高度依赖可能成为潜在风险。光阻剂作为晶圆制造中不可或缺的基础材料，一旦供应受限，将直接影响生产进程。

从全球市场来看，日本厂商长期主导光阻剂领域。JSR、东京应化（TOK）、信越化学、住友化学与富士软片等企业占据全球约70%的市场份额，而在EUV等高端光阻剂领域，这一比例甚至接近90%。中国过去对光阻剂的需求超过一半依赖日本进口，供应链高度集中。

业内人士指出，国内正加速推进光阻剂本土化，目标是在未来3至4年内逐步降低对日本供应商的依赖。据透露，国内已将光阻剂纳入半导体材料自主化的重点发展领域，大基金三期也将其列为重点投资方向，着力提升KrF与ArF光阻剂的本土化率，并布局更先进的EUV光阻剂研发。

目前，国内企业在光阻剂领域已取得一定进展。例如，恒坤新材已实现SOC碳膜、BARC底部抗反射涂层、i-Line与KrF光阻剂的量产，并完成了193nm ArF光阻剂的验证，进入小规模销售阶段。彤程新材、上海新阳和晶瑞电材等企业也在KrF与ArF光阻剂领域取得客户验证进展，部分产品已进入本土晶圆代工厂和存储器大厂的供应链。

整体来看，中国在G/i线光阻剂的本土化率已超过20%，KrF光阻剂约为5%至10%，但在ArF与EUV领域仍处于追赶阶段，短期内完全替代日本供应商并不现实。

分析认为，中国推动光阻剂本土化并非单一企业的突破，而是需要结合上游原材料供应与制造端验证的系统性工程。中国正试图通过庞大的内部市场需求推动研发，逐步构建完整的光阻剂产业链。未来数年，中国能否在稳定良率的前提下实现部分光阻剂的本土替代，将直接影响其先进制程的发展进程。