ASML首台High-NA EUV光刻机，助力英特尔

芯视野消息，综合路透与彭博报道，荷兰半导体设备制造商ASML 12月21日在社交媒体平台X发文宣布，将向英特尔交付其首台新型"High NA"极紫外光刻系统。
据Oddo BHF分析师的说法，ASML high-NA EUV设备的首款型号Twinscan EXE：5200，价格落在2.5亿欧元（约2.75亿美元）上下。至于具备更高生产力的第二代产品EXE：5200B，价格可能超过3.5亿欧元。

ASML表示：“我们很兴奋，也很自豪能将我们的第一个High NA EUV系统交付给英特尔。”
据不愿透露姓名的知情人士透露，设备将送到英特尔位于美国俄勒冈州的D1X工厂进行安装。该工厂已经成为英特尔最前沿研究的基地，也是该公司开发每一代芯片技术的地方。

不过，英特尔与ASML的发言人，皆未对设备运送的目的地的相关传闻做出评论。
先前已知，英特尔规划在2025年将这项设备投入生产。除了英特尔以外，台积电、三星电子、SK海力士、美光等头部晶圆厂商均在积极抢购ASML新一代的高数值孔径High-NA EUV光刻机。
英特尔此前就曾对外表示，其将率先获得业界第一台High-NA EUV光刻机。同时，英特尔还透露，公司已完成Intel 18A（1.8nm）和Intel 20A（2nm）制造工艺的开发。其中，Intel 20A计划于2024年上半年投入使用，进展良好的Intel 18A制造技术也将提前到2024年下半年进入大批量制造（HVM）。上述芯片工艺或将有部分利用High-NA EUV光刻机。

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