ASML技术支持Rapidus 2024年设点北海道

ASML将于2024年下半，在日本北海道千岁市设立技术支持据点。法新社

生产极紫外光（EUV）曝光机等半导体微影设备的荷兰厂商ASML，决定将于2024年下半在日本北海道千岁市一带，设立半导体生产技术的支持据点。当地正是以量产2纳米为目标的Rapidus建厂地点。

日本共同通信社（Kyodo）、日经新闻（Nikkei）等报导，在地缘政治紧张局势下，日本增强境内半导体生产，多个国家的半导体相关业者在日本先后开设据点。

ASML的EUV曝光机，在商业化量产5~7纳米以下的芯片时是不可或缺的设备。因此，为了服务将于2025年试产2纳米芯片的Rapidus，ASML在2024年下半将先行进驻，由40~50名左右的技术人员协助在新厂内设置EUV曝光机，并支持后续维修。

Rapidus若开始生产，日本将成为第五个引进EUV曝光机的国家，其他国家是美国、台湾、韩国，以及爱尔兰。

除了北海道之外，ASML在日本，也协助台积电于熊本厂兴建中的12寸晶圆厂，ASML于2023年9月把技术支持据点移往熊本并扩充人员，工程师增至原来的4倍，约40人，且2023年起的5年内，也就是到2028年左右，ASML在日本境内的人员数量将增加4成，由目前的400人增至560人左右。

除了ASML之外，应材（Applied Materials）也将把在日本的员工数增加6成。

科林研发（Lam Research）为了协助Rapidus，将在北海道设立半导体设备后勤据点。比利时微电子研究中心（Imec）也规划，将在东京、北海道设立新据点。

为了在2025年启用2纳米芯片的试产产线，Rapidus在北海道千岁市的工厂正加紧兴建中。根据Rapidus向北海道政府提出的建筑计划概要书，目前已动工兴建的第一座工厂「IIM-1」，建筑面积约5.4万平方米，为4层楼高，高度约31米，含变电设施在内的使用总面积为15.9万平方米。

Rapidus的「IIM-1」预计2024年12月引进2纳米芯片试产设备，2025年4月试产产线稼动。

「IIM-1」旁的第二座工厂「IIM-2」的用地，也已保留。在2027年2纳米芯片量产上轨道后，预计将兴建「IIM-2」，以生产2纳米以下（Beyond 2nm）芯片。

责任编辑：张兴民