2奈米制程大战！ASML下代EUV 曝光机年底问世，台积电、三星纷卡位

台积电以不超过4.328 亿美元额度，取得英特尔旗下IMS 事业（奥地利商艾美斯电子束科技）10% 股份，预计第四季完成交易，推动EUV（极紫外光）先进曝光技术的创新。业界持正面看法，而韩媒认为这将加剧2 奈米制程的竞争状况。

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韩媒Business Korea 对于台积电这次收购感到吃惊，因为IMS 是开发EUV 设备所需的多光束光罩写入工具的领导厂商，市占率达98%；该公司生产的多光束光罩写入工具能更精确、快速地刻制光罩，有效改变半导体业的游戏规则。

业界人士甚至认为，如果没有IMS 设备，ASML 的EUV 曝光机恐毫无用处，而台积电与英特尔合作似乎是期待ASML 下一代High-NA EUV 微影曝光设备。随着曝光设备在7 奈米以下制程的重要性不断增加，台积电打算深化现有的技术合作。

天风国际证券分析师郭明錤则认为，台积电Arm 与IMS 这两笔投资主要目的为提高垂直整合能力，确保从目前3 奈米的FinFET 技术能顺利转换到2 奈米的GAA 技术。其中，投资IMS 则可确保关键设备的技术开发与供应能满足2 奈米商用化的需求。

英特尔2009 年投资IMS，2016 年收购剩余股份，今年6 月则释出20% 股份给贝恩资本（Bain Capital）。

至于紧追在台积电身后的三星，曾于2012 年以7,000 亿韩圜收购ASML 3% 股份，以合作未来的曝光机开发；但到2016 年，三星以收回投资为由出售一半ASML 股份，截至今年第二季末，三星仅保留0.7% 股份。

但尽管如此，产业专家认为三星和ASML 的合作关系仍相当牢固，据了解，三星正准备确保下一代EUV 微影曝光设备High-NA 的产量，预计这款设备将于今年晚时推出原型，明年正式供货。

报导预计，SK 海力士、台积电和英特尔都将加入下代曝光设备的竞争；另一方面，2 奈米制程竞争也不断升级。台积电去年宣布已准备试产2 奈米产品，以维持领先地位，三星则计划利用GAAFET 技术来弯道超车，随着英特尔和Rapidus 也加入2 奈米战局，先进制程竞争将更加激烈。

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