新型石墨烯过滤膜有望解决半导体制造中的PFAS污染问题
来源:林慧宇 发布时间:2025-04-18
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据Tom's Hardware报道,澳大利亚蒙纳许大学研究团队近期开发出一种新型石墨烯过滤膜,可有效去除水流中的全氟/多氟烷基物质(PFAS)。这种物质因难以自然分解,被称为“永久性化学物质”,在半导体制造中广泛应用,但也带来了严重的环境污染问题。
PFAS在半导体供应链中扮演重要角色,例如微影制程中使用的光阻剂液体和蚀刻室中的气体。然而,PFAS具有极高的水溶性,扩散范围广,传统聚酰胺膜仅能去除约35%的PFAS,而新型石墨烯过滤膜的去除率超过90%,性能大幅提升。
研究团队采用剪切校准打印技术生产过滤膜,这一方式具备高度可扩展性。此外,蒙纳许大学与石墨烯制造商NematiQ关系密切,后者已承诺协助推广这项技术。预计该过滤膜很快将实现商用化,为工业废水处理和垃圾掩埋场渗出液净化提供新方案。
据2022年某晶圆厂数据显示,其排放废水中PFAS含量高达7.8万ppt,远超美国国家环境保护局(EPA)规定的4ppt标准。尽管有人呼吁全面禁用PFAS,但考虑到其在半导体制造中的重要性,这在短期内并不现实。因此,开发高效污染控制技术成为关键。
这一突破性技术不仅有助于减少PFAS污染,还能帮助半导体产业在经济效益与环境保护之间找到更好的平衡点。
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