三星引进High NA EUV设备,备战2纳米市场?
来源:林慧宇 发布时间:21 小时前 分享至微信

据传,三星电子已在华城园区引进了首台High NA EUV设备,这是实现2纳米制程的关键设备。


该设备由ASML生产,价值约5000亿韩元(约3.5亿美元),全球仅ASML能供应。High NA EUV通过提升EUV技术,增强光线聚焦能力,对2纳米以下制程至关重要。


三星自2024年起开始评估High NA EUV的制程应用,计划用于次时代半导体生产。


全球半导体企业正加速引进此设备,如英特尔已签订6台采购合约,台积电也近期引进。业界认为,三星此举意在2纳米市场发起反攻,与台积电的竞争将更加激烈。


三星晶圆代工事业部负责人表示,尽管三星率先完成3纳米GAA制程转换,但商用化仍有不足,加速扩产2纳米制程是当前首要课题。


据传,三星计划完成设备安装后,全力推动相关生态系建设,内部也在积极调整战略方向。


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