台积电回应是否采用High-NA EUV设备:暂无必要
来源:龙灵 发布时间:2025-05-28
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据台积电高层透露,公司正在评估未来制程技术是否需要采用荷兰阿斯麦(ASML)的High-NA EUV(高数值孔径极紫外光)微影设备。这款设备单价接近4亿美元,几乎是目前晶圆厂最昂贵设备的两倍,其高昂成本引发了业界对性能提升与经济效益平衡的广泛讨论。
台积电业务开发资深副总裁张晓强在近期的记者会上明确表示,公司尚未发现必须在即将推出的A14制程中采用High-NA EUV设备的理由。他指出,即便不使用该设备,A14制程的性能表现依然十分出色。台积电技术团队将继续优化现有Low-NA EUV设备的潜力,通过缩小尺寸等技术手段延长其使用寿命。“只要我们能找到解决方案,转向High-NA设备显然并非必要。”
相比之下,台积电的竞争对手英特尔已宣布将在其“14A”制程中引入High-NA EUV设备,以提升其芯片代工业务的竞争力。不过,英特尔也提到,客户仍可选择使用成熟的老款技术。这表明,在追求技术领先的同时,成本控制仍是企业的重要考量因素。
值得注意的是,张晓强去年也曾表达过类似观点,认为A16制程是否需要采用High-NA EUV设备取决于经济与技术的平衡点。他坦言:“虽然这项技术令人欣赏,但其高昂的价格确实让人犹豫。”
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