英特尔:新光刻机投产,性能提升且可靠性增强
来源:赵辉 发布时间:2025-02-25
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据路透报道,英特尔在加利福尼亚州圣何塞的一次会议上宣布,阿斯麦(ASML)首批两台尖端高数值孔径(NA)光刻机已在其工厂正式投入生产,早期数据显示这些机器性能比早期型号更可靠。
英特尔高级首席工程师史蒂夫・卡森在会上称,英特尔利用 ASML 的高数值孔径光刻机,在一个季度内生产出 30,000 个晶圆,这些晶圆是可用于生产数千个计算芯片的大型硅片。去年,英特尔成为全球首家接收这些先进机器的芯片制造商,这些机器有望生产出比 ASML 早期产品更小、更快的计算芯片。
英特尔曾耗时七年才将早期的 EUV 光刻机全面投入生产,这使其在与台湾半导体制造公司(2330.TW)的竞争中失去领先地位。在生产初期,英特尔还质疑过之前 EUV 型号的可靠性。不过,卡森透露,初步测试显示,ASML 新型高数值孔径机器的可靠性约是上一代机器的两倍。“我们以稳定的速度生产晶圆,这对我们的平台益处巨大。” 卡森表示。
据悉,新的 ASML 机器使用光束在芯片上打印特征,相比早期机器,能以更少曝光完成相同工作,节省时间和成本。英特尔工厂的早期结果显示,高数值孔径机器只需一次曝光和 “个位数” 的处理步骤,就能完成早期机器需三次曝光和约 40 个处理步骤的工作。
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