中国光刻胶行业迎来新进展,逐步缩小与全球巨头差距
来源:ictimes 发布时间:2 天前 分享至微信
随着中国半导体行业的持续崛起,高纯度光刻胶的自主研发成为关键。光刻胶,作为先进芯片制造的重要材料,其研发突破对国家半导体产业的自给自足至关重要。2024年,中国在光刻胶领域取得了显著进展,尤其是在满足本土半导体需求方面,展现出强劲的增长势头。
中国的光刻胶技术起步较晚,市场主要由日本和美国的大型企业主导,如JSR、东京应化和杜邦等。然而,近年来,越来越多的中国公司开始在这一领域崭露头角。例如,湖北鼎龙成功开发出了符合客户需求的ArF和KrF光刻胶,并获得了国内晶圆制造商的大额订单,标志着中国在高端光刻胶生产方面迈出了坚实一步。
此外,容大感光也获得了2.44亿元的融资,用于推动高端光刻胶的研发和生产。这些资金的注入,将加速其技术突破,并增强其在全球市场中的竞争力。随着中国本土晶圆厂的扩张,需求不断增加,本地化光刻胶的需求愈加迫切。
虽然全球竞争仍设有高技术壁垒,但中国光刻胶行业已经不再是追赶者,逐步缩小与国际领先水平的差距,未来有望在高端市场中占据一席之地。中国政府的积极支持,尤其是对半导体和原材料领域的政策扶持,正在为本土企业的发展提供强有力的助推。
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