在9月26日的发布会上，佳能公司宣布正式向美国得克萨斯州电子研究所交付其首款纳米压印光刻机（NIL）。这一设备的推出标志着佳能在半导体制造领域迈出了重要一步，展现出其强烈的市场竞争意图。

纳米压印光刻机利用一种类似印章的技术，通过将纳米级图案转印到晶圆上，来代替传统的光刻方法。与依赖强光绘制电路的传统技术相比，佳能的新设备在能耗和成本方面都具有明显优势，尤其是在绘制更小线宽电路方面。这一技术能够支持5纳米半导体工艺，并能制作最小线宽为14纳米的电路图案，接近目前市场上领先的极紫外（EUV）光刻设备。

佳能自2014年开始研发这项技术，计划在未来三到五年内每年销售十几台设备，显示出其在光刻设备市场的雄心。光学设备事业部副总经理岩本和德指出，纳米压印光刻机不仅能满足市场的多样需求，还能有效减少生产过程中的资源消耗。

作为唯一供应极紫外光刻设备的制造商，ASML在行业中占据领先地位。佳能的进军无疑为半导体制造领域带来了新的竞争，或将推动技术的进一步发展。