佳能公司于9月26日宣布，向美国得克萨斯州电子研究所交付其全新的半导体制造设备——“纳米压印”光刻机（NIL）。这一设备将成为市场上极紫外光刻技术（EUV）的有力竞争者，为先进制程带来新的选择。
不同于传统使用光线绘制晶圆电路的方式，佳能的纳米压印设备通过“盖章”式的技术，将纳米级别的图案刻印在掩膜上，再转印至晶圆。该方法不仅大幅降低了耗电量和生产成本，还具备高效性能，能够支持5纳米工艺的生产。尽管目前市场主流仍为ASML主导的EUV技术，佳能的设备经过不断改良，有望在未来实现2纳米级半导体的量产，为行业带来新的突破。
佳能自2014年便开始投入该技术的开发，并计划在未来几年内每年售出十几台设备。此次交付的成功不仅标志着该公司在半导体领域迈出重要一步，也表明其在高端光刻设备市场中逐步崭露头角。这款设备的出现，或将打破当前光刻设备市场的垄断局面。
