近日，东方晶源在其官方渠道宣布，PanGen DMC（Design Manufacturability Check）成功完成验证，标志着其在光刻技术领域的一项重要突破。基于强大的PanGen®计算光刻平台，PanGen DMC®结合了先进的D2C（Design To Contour）快速反馈引擎，能够以人工智能模型的方式打包整套OPC Recipe解决方案，从而帮助用户快速、准确地预测硅片上的最终形貌。

实测数据显示，PanGen DMC®在国内某先进节点的FAB中展现出卓越的性能，其全芯片预测结果在99%以上的版图位置上，误差小于1nm。这一成果不仅验证了其D2C反馈引擎的高效性，也证明了该技术能够接近完整OPC Recipe的实际效果。

更重要的是，PanGen DMC®能够在设计阶段提前识别潜在缺陷，提高了设计的可制造性。实测结果显示，该系统对严重缺陷的捕获率超过90%，为光刻过程提供了及时反馈，帮助工艺团队做出更精准的决策。

总体来看，PanGen DMC®的推出无疑为半导体行业注入了新的活力，推动了设计和制造的无缝衔接，为未来的技术进步奠定了坚实基础。东方晶源凭借这一创新，展现了其在行业中的领导地位和前瞻性。