盛美半导体设备（上海）股份有限公司（盛美上海）在一场商标权争夺战中取得胜利。北京市高级人民法院终审判决驳回上诉人上海至纯洁净系统科技股份有限公司（至纯科技）的上诉请求，确认国家知识产权局关于“至微科技ULTRON WET SOLUTIONS”商标无效的裁定合法有效。这场持续近两年的商标争议终于画上句号。

盛美上海，自2005年成立以来，专注于集成电路清洗设备和电镀设备的研发与制造，其产品在国内外市场享有良好声誉。公司连续多年获得行业认可，包括被评为“中国半导体设备五强企业”等荣誉。盛美上海的主要产品在国内市场占有率达到23%，全球单片清洗设备市场份额升至7%，在电镀设备市场全球排名第三、国内第一。

2022年，盛美上海发现至纯科技注册的商标与自家“UltraC”等商标高度相似，可能引起公众混淆。为保护品牌声誉和商标权益，盛美上海向国家知识产权局提出无效宣告请求，并获得支持。此次胜诉不仅维护了盛美上海的商标权益，也展示了公司在知识产权保护方面的决心和实力。