9月5日，中国电科官方宣布，其48所自主研发的8英寸碳化硅外延设备成功实现关键技术升级。

此次升级后的8英寸碳化硅外延设备，通过激光视觉定位与晶圆自纠偏技术的精妙结合，设备的自动化水平跃升至新高度，生产效率显著提升，为大规模生产提供了强有力的技术支持。

值得一提的是，湖南省科技事务中心还透露，中国电科48所在研发过程中展现出了卓越的创新精神。中国电科48所研发的8英寸设备在6英寸设备的基础上进行了革新，其外延层的厚度以及掺杂浓度的均匀性，都得到极大的提升：8英寸生长厚度均匀性小于1.5%，掺杂浓度均匀性小于4%，表面致命缺陷小于0.4个/cm2。