三星前高管崔振石因20纳米技术泄露被捕
来源:ictimes 发布时间:2024-09-09 分享至微信
前三星电子与SK海力士的资深高管崔振石(66岁),因涉嫌泄露三星的尖端20纳米DRAM技术数据被捕。崔振石此前曾因窃取三星半导体工厂蓝图并计划建立“克隆工厂”而被拘留。
9月5日,首尔中央地方法院院长金美京的一纸逮捕令,正式将崔振石与前三星高级研究员吴某推向了法律的审判台。二人被控以违反《反不正当竞争法》及《商业秘密保护法》。
崔振石在半导体领域拥有丰富经验,本应是守护企业核心技术的中坚力量,却利用职务之便,非法获取三星与SK海力士的核心技术资料——半导体设计蓝图与工艺流程图,视作个人私产,企图在中国复制出另一座“芯片帝国”。
此举不仅严重侵害了原公司的利益,更对全球半导体市场的竞争格局构成了潜在威胁。这一事件对崔振石个人品德和职业操守提出了考验,同时也提醒半导体行业重视知识产权保护和内部管理。
[ 新闻来源:ictimes,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦,快来评论一下吧!
ictimes
聚焦于半导体行业芯闻
查看更多
相关文章
三星电子前高管涉嫌技术泄露被捕,50亿芯片项目停产
2024-09-12
三星与SK海力士前高管,技术外流遭重新羁押
2024-09-10
三星电子辐射事故,高管挨批
2024-10-12
崔周善或重返三星半导体
2024-10-16
三星前高管外泄DRAM技术,损失高达32亿美元
2024-09-13
热门搜索