英特尔与日本国家先进工业科学和技术研究所（AIST）携手，将在日本打造一个尖端半导体制造技术的研发中心，重点推进极紫外（EUV）光刻技术的创新。该中心将成为日本首个让行业参与者共同使用EUV设备的研发平台，为日本在芯片制造设备和材料领域的领先地位提供进一步支持。

这一设施将在三到五年内建成，预计投资将达到数亿美元。企业将支付费用以使用该设施进行原型设计和测试，从而降低企业独立购买昂贵设备的成本。特别是EUV设备，单台成本超过400亿日元（约2.73亿美元），对于许多企业而言难以承受。因此，中心的共享模式将为日本的半导体产业带来重要推动力。

在全球半导体竞争日益加剧的背景下，美国对华技术出口管制的加强使得跨境合作复杂化。而这一中心的成立将减少日本企业依赖海外设备的瓶颈，加速国内芯片产业的自主研发进程。英特尔作为全球芯片制造的领导者，将为该项目提供重要的技术支持。

日本在EUV相关技术上已占有优势。例如，Lasertec在EUV检查设备市场中处于领导地位，而JSR等公司则在光刻胶材料领域表现出色。通过这一合作，英特尔希望进一步强化与日本材料和设备供应商的合作，助力半导体产业的未来发展。